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洁净室手套标准
洁净室合成手套已用于电子、磁盘驱动器、半导体和存储媒体行业。
在过去的15年, 寻找更干净的手套, 在TFT、LCD、纳米技术、生物医药应用等新兴行业这是一个不断增长的市场。
目前，洁净室手套的工业用途主要是合成手套
但事实并非如此，直到2000年，乳胶手套才是原则洁净室可用
洁净室手套的基本功能是确保将污染物转移到产品上的可能性降至最低或在清洁环境中加工或制造的部件。这些污染物会
始终出现在人员裸露的手中。正是为了这个目的，双手需要戴手套。然而，这种手套需要在其表面上有最小的污染物，因此需要
使用洁净室手套。
可能影响产品或工艺质量或完整性的主要污染物在临界环境中有亚微米颗粒、离子化学污染物、非挥发性化学物质组分以及硅酮、酰胺或邻苯二甲酸二辛酯（DOP）。在洁净室行业，这些参数包括颗粒数、离子含量、总不挥发残留物（TNVR）和硅树脂，酰胺或DOP含量。根据操作环境的关键性，使用合适的洁净室手套。
因此，非常关键的环境（10级洁净室）需要使用最干净的手套，即10级洁净室手套
测试内容：
3.1洁净室
专门建造的房间，地板和墙壁均为无颗粒释放和无颗粒吸附
注1：循环中的空气通过高效微粒空气（HEPA）或超低微粒空气（ULPA）过滤器过滤。主要目的是将尽可能少的污染物引入该房间内的工作站、进行中的产品以及操作人员。
3.2层流气流
洁净室（3.1）内的均匀气流（与湍流相反），确保从洁净室中有效清除所有移位的颗粒（3.5）
3.3 RO-DI工艺用水
反渗透去离子工艺水
具有极低颗粒（3.5）和离子含量的水
3.4电阻率
测量特定材料（橡胶）对电流的阻力
注1：电阻率用MΩ表示。它是对RO-DI工艺水纯度的测量（3.3）。最佳纯度为18MΩ。
3.5颗粒
固体、液体或两者兼有的物体，尺寸通常在1纳米到1毫米之间
3.6生成粒子
颗粒（3.5），以前不存在于基底表面，但在表面施加机械能后产生和释放
3.7粒度
光学显微镜观察到的观察平面内颗粒（3.5）的最大视线性尺寸或自动仪器检测到的颗粒等效直径
3.8可释放颗粒
存在于基板表面上的颗粒（3.5），其可通过用液体润湿基板而容易地从表面释放，但不会向基板施加机械能
3.9空气颗粒物计数
典型洁净室（3.1）中存在的尺寸为0.3μm及以上的颗粒数量（3.5），由空气中的颗粒计数器设备确定
该标准把洁净室手套分为3个等级：
ISO 4级
ISO 5级
ISO 6级
ISO 4级
ISO 5级
ISO 6级
提出洁净室手套的加工程序和环境要求：
适合洁净室处理的未加工手套，需要经确认的带层流罩的洁净室中进行清洗、提取、干燥和包装。
提出对手套处理的水质的要求：
这种加工需要使用电阻率在13MΩ至18MΩ之内的RO-DI处理水进行亚微米清洗过程，其中，机械，温度，水/手套比例，接触时间以及重复循环的频率，共同确保：即使TNVR和离子含量降低，所产生的微粒以及可释放的微粒仍从手套表面去除。然后，将这些清洁的手套脱水，脱水并在专用的干燥机中进行干燥，该干燥机的干燥空气中的空气悬浮粒子较低。
提出洁净室手套的存放条件：
应努力将这些手套包装在特殊的不脱落微粒的包装中。指示特殊标记，以确保此类手套不会暴露在过热的热量或光源下，这可能会导致进一步产生的微粒
